當(dāng)磨料顆粒由粗磨到粗磨、拋光時，磨料在石材表面磨削的痕跡由粗到細(xì)再到無肉眼看到的痕跡，表面便呈現(xiàn)光滑、平整、細(xì)膩，當(dāng)深度達(dá)110微米時，被加工面出現(xiàn)鏡面光澤，光彩照人，色澤鮮艷。

拋光的過程有2個，即“干拋光與濕拋光”，拋光磨石在“干與濕”之間當(dāng)石材產(chǎn)品發(fā)生物理化學(xué)作用，干拋光是在石材表面溫度升高使水分蒸發(fā)，導(dǎo)致拋光磨石濃度增大，從而達(dá)到強(qiáng)化效果，產(chǎn)品光澤度開始達(dá)到了理想要求，光澤度達(dá)85度以上或更高。

拋光劑的類型

拋光劑雖然是一種特殊的磨光材料，但它與磨削材料的區(qū)別主要是表現(xiàn)在加工機(jī)理上。原則上說，有一些低硬度的微粉材料也可做拋光劑使用。但通常高硬度的拋光劑比低硬度的好，且適用范圍也廣。金剛石拋光粉，對絕大多數(shù)石材的拋光，都能取得較為滿意的拋光效果。

拋光工藝參數(shù)

工藝參數(shù)有拋光劑的濃度和供給量，拋光時的壓力和線速度等。在小于某一濃度值之前，拋光速度隨拋光劑濃度的增加而增加，濃度值達(dá)之后，若再增加濃度，拋光速度反而降低。同樣，拋光劑的供給量在一定值時，拋光速度，之后若繼續(xù)增加供給量，拋光速度反而降低。適當(dāng)增加拋光時的壓力，可以增加拋光速度，但壓力過大，磨削作用加強(qiáng)，不利于光澤面的形成。拋光速度取決于拋光盤（具）的轉(zhuǎn)速，但線速度過大，拋光劑將會被甩出，造成浪費(fèi)。