清洗劑對生物與環(huán)境或低毒，所生成的廢氣、廢液與廢渣無污染，應能夠被處理到符合國家相關(guān)法規(guī)的要求。

清洗過程不在清洗對象表面殘留下不溶物，不產(chǎn)生新污潰，不形成新的有害于后續(xù)工序的覆蓋層，不影響產(chǎn)品的質(zhì)量。

不產(chǎn)生影響清洗過程及現(xiàn)場衛(wèi)生的泡沫和異味。

目前國內(nèi)的清洗一般使用的是強酸、堿加緩蝕劑的方式清洗，對設(shè)備損害較大，清洗效果也不夠理想。加之從事清洗業(yè)務的公司多是不具備清洗資質(zhì)的小公司，使清洗市場愈加混亂。一些具備清洗資質(zhì)的工程公司收費較高，目前具備環(huán)保清潔劑生產(chǎn)能力的少之又少，國內(nèi)以優(yōu)潔士清潔膏為首的環(huán)保型清潔劑認知度相比國外品牌偏低。給企業(yè)及個人帶來了沉重的負擔。

水基型

水是重要的清洗劑，有著其它任何清洗劑無法替代的作用和地位。普通的水很容易從自然界中得到，水有很強的溶解力和分散力。但是水的表面張力大，在使用中需要添加表面活性劑，以減小表面張力，增加表面濕潤性。在一般工業(yè)清洗中，酸，堿和水的配合比較常見，有些金屬用水洗要加入防銹劑；在精密和超精密工業(yè)清洗中。大部分要求將水制成純凈水。通常以電阻率來衡量水純度。半導體工業(yè)要求在18MΩ/cm以上。而TN型液晶生產(chǎn)10MΩ/cm就可以了，還有一些行業(yè)對含量要求很嚴。

的清洗劑就是CFC和TCA。它們的化學穩(wěn)定性好，可以長期保存不變質(zhì)；對絕大多數(shù)金屬、塑料、漆均無作用，不會發(fā)生溶解現(xiàn)象，沒有閃點，低毒，使用；表面張力小，滲透力強，清洗能力強；沸點低，蒸發(fā)速度快，清洗過的工件可以自行干燥，一般不需要烘干，因而被廣泛應用在各種工業(yè)清洗中。但的缺點就是破壞臭氧層，因而正在被逐步禁用。