PDMAT五(二甲氨基)鉭(V) (C10H30N5Ta)

化學式C10H30N5Ta中文名稱五（二甲氨基）鉭(V)英文名稱PDMATCAS No.19824-59-0分子量401.3266充裝系數(shù)

應用氮化鉭 (TaN) 薄膜的揮發(fā)性固體 CVD 前體。當在沉積過程中存在 O2、H2O、NO 或 H2O2 時，還會形成氧化鉭 (Ta2O5) 薄膜。 Ta2O5 薄膜作為集成電路制造中的柵電介質材料具有廣闊的應用前景。產品規(guī)格≥99.99%

Pentakis‐dimethylamino Tantalum (PDMAT) is a solid source material for chemical vapor deposion or atomic layer deposion of highly conformal tantalum oxide or tantalum nitride ?lms.