產(chǎn)品概述：

高溫真空CVD設(shè)備由滑動式快速退火管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成

，溫度可以達(dá)到1200度,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等，極限真空可以達(dá)到10-3Pa，供氣系統(tǒng)是流量調(diào)節(jié)可以是質(zhì)子流量計(jì)或浮子流量計(jì)，混氣路數(shù)可以是2路、3路、4路、5路相混合，可以對多種氣體進(jìn)行的混氣，然后導(dǎo)入到管式爐內(nèi)部。

快速退火爐爐管兩端安裝真空法蘭，真空度用分子泵可以到10-5Torr，機(jī)械泵可到10-3Torr。爐底安裝一對滑軌，可用手動滑動。加熱和冷卻速率可達(dá)100°C/m。為取得快加熱，可以預(yù)先加熱爐子到設(shè)定的溫度，然后移動爐子到樣品位置。為獲得快冷卻，可在樣品加熱后移動爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環(huán)境下可以達(dá)到10°C/s，是低成本快速熱處理的理想爐子。

適用范圍：

高溫真空CVD設(shè)備廣泛用于各種反應(yīng)溫度在1200℃左右的CVD實(shí)驗(yàn)，也可用于：真空燒結(jié)、真空氣氛保護(hù)燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備等多研究領(lǐng)域。它是一種特殊的高真空CVD系統(tǒng)，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、CVD涂層、真空退火用的理想產(chǎn)品。