荷蘭ASML光刻機(jī)進(jìn)口報(bào)關(guān)流程
ASML光刻機(jī)進(jìn)口荷蘭光刻機(jī)進(jìn)口報(bào)關(guān)荷蘭ASML光刻機(jī)進(jìn)口
光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、薄膜沉積設(shè)備為晶圓制造設(shè)備中的核心設(shè)備。ASML是全球更大的光刻機(jī)公司，市場份額高達(dá)八成。ASML是三星、英特爾和臺積電的更大設(shè)備供應(yīng)商之一，總部位于荷蘭。
半導(dǎo)體行業(yè)的開展趨向
1.國內(nèi)半導(dǎo)體市場高速增長
在《國度集成電路產(chǎn)業(yè)開展推進(jìn)綱要》和國度集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金的推進(jìn)下，中國半導(dǎo)體市場已成為全球增長引擎，2018年銷售額超越4300億元，增長率到達(dá)19%。在國內(nèi)設(shè)計(jì)、制造和封測三業(yè)并舉、諧和開展的格局下，估計(jì)2019年國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)增速區(qū)間為18%-25%。
二手半導(dǎo)體設(shè)備普通貿(mào)易進(jìn)口問題拆解
（一）進(jìn)口二手半導(dǎo)體設(shè)備備案所需的材料：
1.申請人、收貨人、發(fā)貨人停業(yè)執(zhí)照（復(fù)印件）；
2.合同或有約束力的協(xié)議；
3.國度允許進(jìn)口證明文件（復(fù)印件）；
4.裝運(yùn)前預(yù)檢驗(yàn)申請書；
5.擬進(jìn)口舊設(shè)備清單（包括：稱號、編碼、數(shù)量、規(guī)格型號、產(chǎn)地、制造日期、制造商、新舊狀態(tài)、價(jià)錢、用處）。
6.其它有關(guān)材料。
（二）進(jìn)口二手半導(dǎo)體設(shè)備第二個(gè)環(huán)節(jié)就是中檢，中檢所需材料：
1.《進(jìn)口舊機(jī)電產(chǎn)品備案申請書》（申請人核蓋公章、法定代表人簽章）
2.《進(jìn)口舊機(jī)電產(chǎn)品清單》（申請人核蓋公章）
3.申請人、收貨人、發(fā)貨人停業(yè)執(zhí)照或者注冊注銷文件（復(fù)印件，申請人核蓋公章）
4.必要時(shí)，還應(yīng)當(dāng)提交以下材料（除照片外，申請人均核蓋公章）：
舊機(jī)電產(chǎn)品的情況闡明、制造年份證明資料，反映備案產(chǎn)品特征的彩色照片；
（三）第三環(huán)節(jié)是要指定的設(shè)備才需求辦理的，《自動進(jìn)口答應(yīng)證》所需材料：
1.進(jìn)口企業(yè)的停業(yè)執(zhí)照復(fù)印件二份、外商投資企業(yè)批準(zhǔn)證書或進(jìn)出口企業(yè)資歷證書復(fù)印件二份（初次辦理進(jìn)口申請手續(xù)企業(yè)需提供，辦理舊機(jī)電產(chǎn)品進(jìn)口每次都要提供）。
2.進(jìn)口機(jī)電產(chǎn)品申請報(bào)告原件二份（初次辦理進(jìn)口申請手續(xù)企業(yè)需提供，辦理舊機(jī)電產(chǎn)品進(jìn)口每次都要提供）。
3.進(jìn)口舊機(jī)電產(chǎn)品需提供國外供給商出具的舊機(jī)電產(chǎn)質(zhì)量量檢測闡明傳真件和出入境檢驗(yàn)檢疫局出具的《進(jìn)口舊機(jī)電產(chǎn)品裝運(yùn)前預(yù)檢驗(yàn)備案書》復(fù)印件各一式二份。
4.進(jìn)口用于銷售的機(jī)電產(chǎn)品需提供銷售合同復(fù)印件一式二份。
5.其他需求提供的資料
（四）進(jìn)口二手舊設(shè)備產(chǎn)品報(bào)檢手續(xù)和其他的貨物有所不用，主要是不同設(shè)備所需求提供的材料不同，報(bào)檢所需材料：
1.海運(yùn)提單；
2.<進(jìn)口舊機(jī)電產(chǎn)品裝運(yùn)前預(yù)檢驗(yàn)備案書>；
3.中檢證明；
4.裝箱單,IVOICE,合同(蓋章)；
5.報(bào)檢拜托書；
6.申請單位停業(yè)執(zhí)照.(加蓋公章)；
7.《自動進(jìn)口答應(yīng)證》。
（五）進(jìn)口二手舊半導(dǎo)體的報(bào)關(guān)和其他產(chǎn)品根本上是一樣的，所需求的材料：
1.裝箱單、invoice、合同（注明分明產(chǎn)品的型號號及新舊水平）、闡明書；
2.入境貨物通關(guān)單。
簡單來說，光刻機(jī)的作用是將已經(jīng)設(shè)計(jì)好的電路圖刻到硅晶圓上。
光刻機(jī)的精度越高，在同等單位硅晶圓上就可以刻錄更多的電路圖，所制造出來的半導(dǎo)體設(shè)備的性能也將大幅提升。
在過去的幾十年里集成電路版上的晶體管數(shù)量除了依賴新材料的不斷出現(xiàn)外，更主要的原因就是光刻機(jī)精度的不斷提高。
目前全世界能生產(chǎn)性能穩(wěn)定的更高精度光刻機(jī)設(shè)備的只有ASML。
萬享半導(dǎo)體設(shè)備中檢清關(guān)?？者\(yùn)咨詢：倪先生
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