東莞實(shí)驗(yàn)室超純水設(shè)備廠(chǎng)家
我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MQ.cm、15MQ.cm、10MQ. cm、2MQ. cm、0. 5MQ. cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)、標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
水質(zhì)要求:新型光電材料生產(chǎn),加工,清洗;LCD液晶顯示器,PDP等離子顯示器,高品質(zhì)燈管顯像管,微電子行業(yè),FPC/PCB線(xiàn)路板,線(xiàn)路板,大規(guī)模,超大規(guī)模集成電路需要大量高純水,超純水來(lái)清洗半成品,成品。隨著集成電路集成度的提高,對(duì)水質(zhì)的要求也越來(lái)越高,對(duì)超純水處理工藝和產(chǎn)品的簡(jiǎn)單性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性和可持續(xù)性等都提出了更高的要求。
超純水制備工藝:
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱-→純水泵-→紫外線(xiàn)器->拋光混床-→精密過(guò)濾器-→用水對(duì)象(≥ 18MQ .CM) (傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線(xiàn)器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥18MQ.CM) (工藝)
3、預(yù)處理→-級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))-→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲透)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線(xiàn)器→0.2或0.5μ m精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥17M0. CM) (工藝)
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵-.紫外線(xiàn)器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器-.用水對(duì)象(三15MQ .M) (工藝)
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→混合床→紫外線(xiàn)器→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥15MQ.CM) (傳統(tǒng)工藝)
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