集成電路對(duì)于離散晶體管有兩個(gè)主要優(yōu)勢:成本和性能。成本低是由于芯片把所有的組件通過照相平版技術(shù),作為一個(gè)單位印刷,而不是在一個(gè)時(shí)間只制作一個(gè)晶體管。性能高是由于組件快速開關(guān),消耗更低能量,因?yàn)榻M件很小且彼此靠近。2006年,芯片面積從幾平方毫米到350 mm2,每mm2可以達(dá)到一百萬個(gè)晶體管。個(gè)集成電路雛形是由杰克·基爾比于1958年完成的,其中包括一個(gè)雙極性晶體管,三個(gè)電阻和一個(gè)電容器,相較于現(xiàn)今科技的尺寸來講,體積相當(dāng)龐大。
集成電路(IC)芯片在封裝工序之后,必須要經(jīng)過嚴(yán)格地檢測才能保證產(chǎn)品的質(zhì)量,芯片外觀檢測是一項(xiàng)必不可少的重要環(huán)節(jié),它直接影響到 IC 產(chǎn)品的質(zhì)量及后續(xù)生產(chǎn)環(huán)節(jié)的順利進(jìn)行。外觀檢測的方法有三種:一是傳統(tǒng)的手工檢測方法,主要靠目測,手工分檢,可靠性不高,檢測效率較低,勞動(dòng)強(qiáng)度大,檢測缺陷有疏漏,無法適應(yīng)大批量生產(chǎn)制造;二是基于激光測量技術(shù)的檢測方法,該方法對(duì)設(shè)備的硬件要求較高,成本相應(yīng)較高,設(shè)備故障率高,維護(hù)較為困難;三是基于機(jī)器視覺的檢測方法,這種方法由于檢測系統(tǒng)硬件易于集成和實(shí)現(xiàn)、檢測速度快、檢測精度高,而且使用維護(hù)較為簡便,因此,在芯片外觀檢測領(lǐng)域的應(yīng)用也越來越普遍,是 IC 芯片外觀檢測的一種發(fā)展趨勢。
集成電路(integrated circuit)是一種微型電子器件或部件。采用一定的工藝,把一個(gè)電路中所需的晶體管、電阻、電容和電感等元件及布線互連一起,制作在一小塊或幾小塊半導(dǎo)體晶片或介質(zhì)基片上,然后封裝在一個(gè)管殼內(nèi),成為具有所需電路功能的微型結(jié)構(gòu);其中所有元件在結(jié)構(gòu)上已組成一個(gè)整體,使電子元件向著微小型化、低功耗、智能化和高可靠性方面邁進(jìn)了一大步。它在電路中用字母“IC”表示。集成電路發(fā)明者為杰克·基爾比(基于鍺(Ge)的集成電路)和羅伯特·諾伊思(基于硅(Si)的集成電路)。當(dāng)今半導(dǎo)體工業(yè)大多數(shù)應(yīng)用的是基于硅的集成電路。
集成電路按導(dǎo)電類型可分為雙極型集成電路和單極型集成電路,他們都是數(shù)字集成電路。
雙極型集成電路的制作工藝復(fù)雜,功耗較大,代表集成電路有TTL、ECL、HTL、LST-TL、STTL等類型。單極型集成電路的制作工藝簡單,功耗也較低,易于制成大規(guī)模集成電路,代表集成電路有CMOS、NMOS、PMOS等類型。