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無(wú)錫匯泉凈化設(shè)備有限公司

主營(yíng):無(wú)錫凈水設(shè)備生產(chǎn),無(wú)錫水處理研發(fā),無(wú)錫水處理設(shè)計(jì)

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蘇州陶瓷電路板清洗用EDI超純水設(shè)備

2020-03-30 04:26:20  1208次瀏覽 次瀏覽
價(jià) 格:56200

超純水設(shè)備性能優(yōu)勢(shì)

EDI水處理裝置性能優(yōu)勢(shì)數(shù)不勝數(shù),其能夠連續(xù)穩(wěn)定的制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水,不會(huì)因?yàn)闃?shù)脂再生而停止運(yùn)行,設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)相對(duì)靠緊,所以其占地非常小,可以為企業(yè)節(jié)省很多空間,超純水設(shè)備在出廠前均需進(jìn)行裝置調(diào)試,所以設(shè)備故障幾率較小,日常保養(yǎng)、維修等操作都非常簡(jiǎn)單。

超純水系統(tǒng)內(nèi)部還安置有反滲透預(yù)脫鹽技術(shù),再次從根本上行保障了設(shè)備的出水水質(zhì),與此同時(shí),EDI處理裝置廢水產(chǎn)出量少,不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染,有非常高的環(huán)境效益、經(jīng)濟(jì)效益,其發(fā)展前景廣闊。

超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

我公司超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

超純水系統(tǒng)前景

清洗行業(yè)超純水設(shè)備內(nèi)部還安置有反滲透預(yù)脫鹽技術(shù),再次從根本上行保障了設(shè)備的出水水質(zhì),與此同時(shí),EDI處理設(shè)備廢水產(chǎn)出量少,不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染,有非常高的環(huán)境效益、經(jīng)濟(jì)效益,其發(fā)展前景廣闊。

3)EDI設(shè)備優(yōu)點(diǎn)

A、無(wú)需酸堿再生,無(wú)化學(xué)藥劑使用,無(wú)酸堿廢水排放,生產(chǎn)過(guò)程無(wú)任何污染,屬清潔生產(chǎn);

B、無(wú)需停機(jī)再生,連續(xù)生產(chǎn)水質(zhì)穩(wěn)定的高純水;

C、運(yùn)行穩(wěn)定可靠,降低運(yùn)行和維修費(fèi)用;

D、無(wú)需派專(zhuān)門(mén)人員看守,易于實(shí)現(xiàn)設(shè)備自動(dòng)化控制;

E、設(shè)備占地面積小,減少車(chē)間建設(shè)面積,節(jié)約場(chǎng)地建設(shè)費(fèi)用投資。

F、控制系統(tǒng)可根據(jù)用戶具體使用要求進(jìn)行個(gè)性化設(shè)計(jì),結(jié)合先進(jìn)的控制軟件,現(xiàn)場(chǎng)在線集中監(jiān)控重要工藝操作參數(shù),避免人工誤操作,多方位確保系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。

4)應(yīng)用領(lǐng)域

A、制藥行業(yè)、微電子行業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。

B、在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛。

C、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路;

D、超純材料和超純化學(xué)試劑;

E、實(shí)驗(yàn)室和中試車(chē)間;

F、汽車(chē)、家電表面拋光處理;

G、光電產(chǎn)品;

H、其他高科技精微產(chǎn)品

5)EDI先進(jìn)性比較

(1)產(chǎn)水水質(zhì)比較

EDI裝置是一個(gè)連續(xù)凈水過(guò)程,因此其產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定,電阻率***高可達(dá)18.25MΩ?cm,達(dá)到超純水的指標(biāo)。混床離子交換設(shè)施的凈水過(guò)程是間斷式的,,在剛剛被再生后,其產(chǎn)品水水質(zhì)較高,而在下次再生之前,其產(chǎn)品水水質(zhì)較差。

(2)投資量比較

與混床離子交換設(shè)施相比EDI裝置投資量要高約20%左右,但從混床需要酸堿儲(chǔ)存、酸堿添加和廢水處理設(shè)施及后期維護(hù)、樹(shù)脂更換來(lái)看,兩者費(fèi)用相差在10%左右。隨著技術(shù)的提高與批量生產(chǎn),EDI裝置所需的投資量會(huì)大大的降低。另外,EDI裝置設(shè)備小巧,所需廠房遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于混床。

(3)運(yùn)行成本比較

EDI裝置運(yùn)行費(fèi)用包括電耗、水耗、藥劑費(fèi)及設(shè)備折舊等費(fèi)用,省去了酸堿消耗、再生用水、廢水處理和污水排放等費(fèi)用。

在電結(jié)論:在運(yùn)行費(fèi)用中,EDI裝置噸水運(yùn)行成本在1.8元左右,常規(guī)混床噸水運(yùn)行成本在3.2元左右,高于EDI裝置。因此,EDI裝置多投資的費(fèi)用在1-2年內(nèi)完全可以回收。

6)EDI設(shè)備安裝要求

(1)無(wú)須專(zhuān)做安裝基礎(chǔ),地基堅(jiān)實(shí)水平即可

(2)入水水壓如低于0.2Mpa需加裝管道泵

(3)使用前需先沖洗管道,避免雜質(zhì)堵塞閥體,污染樹(shù)脂

(4)不可用加碘鹽、加鈣鹽作再生劑,定期向鹽罐加鹽,確保鹽水飽和濃度(應(yīng)保證溶解時(shí)間不小于六小時(shí))。

(5)設(shè)備配置

EDI純水設(shè)備操作運(yùn)行維護(hù)

EDI純水設(shè)備的良好的長(zhǎng)期運(yùn)行不僅依賴(lài)于系統(tǒng)的初期設(shè)計(jì),而且取決于正確的運(yùn)行和維護(hù)。這包含系統(tǒng)的初期啟動(dòng)和運(yùn)行過(guò)程中的啟動(dòng)/停機(jī)。為了保持系統(tǒng)的長(zhǎng)期良好運(yùn)行,需要對(duì)系統(tǒng)運(yùn)行數(shù)據(jù)進(jìn)行定期記錄,以便日后日常運(yùn)行維護(hù)。而且日常運(yùn)行維護(hù)數(shù)據(jù)對(duì)于在設(shè)備故障判斷和決定采取何種措施方面有重要意義。

1、啟動(dòng)前的檢查通過(guò)運(yùn)行反滲透裝置,將其處于回流狀態(tài)。

測(cè)試EDI純水設(shè)備進(jìn)水水質(zhì)的下列指標(biāo):

進(jìn)水水源二級(jí)反滲透產(chǎn)水

進(jìn)水當(dāng)量電導(dǎo)率(包括CO2與Si)<40μS/cm

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