工廠低價(jià)轉(zhuǎn)讓6臺(tái)8成新日本創(chuàng)技30B/40B雙面拋光研磨機(jī)

產(chǎn)品用途:本主要用于藍(lán)寶石襯底、硅片、陶瓷片、光學(xué)玻璃、石英晶體、其它半導(dǎo)體材料等非金屬和金屬的硬脆性材料薄形精密零件的上、下兩平行端面的同時(shí)磨削及拋光。

特點(diǎn)：

1.采用雙電機(jī)同步拖動(dòng)，太陽(yáng)輪變速范圍更廣，能適應(yīng)不同研磨工藝的要求。

2.太陽(yáng)輪與內(nèi)齒圈同步抬升，滿(mǎn)足了取放工件及調(diào)整游輪嚙合位置的要求。

3.上下研磨盤(pán)采用斜齒輪傳動(dòng)，提高了運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)性。

4.采用PLC控制，壓力采用電—?dú)獗壤y閉環(huán)反饋控制，壓力等級(jí)設(shè)定更方便，操作簡(jiǎn)單易行，工作可靠穩(wěn)定。

5.本機(jī)應(yīng)用人機(jī)界面（PT）采用人機(jī)界面終端（NT）顯示與PLC控制，一方面顯示運(yùn)行參數(shù)，另一方面通過(guò)其觸摸鍵調(diào)整設(shè)定各項(xiàng)工藝參數(shù)，主操作由普通鍵鈕完成。

6.造型及內(nèi)部結(jié)構(gòu)充分考慮了可靠性、實(shí)用性、互換性和操作和維修的方便性。主要技術(shù)參數(shù)：1、研磨盤(pán)尺寸：φ1920mm×φ1000mm×50mm2、游星片參數(shù)：公制M=2Z=212英制DP12Z=2003、游星片數(shù)量：5片4、研磨直徑：φ1000mm5、***小研磨厚度：0.40mm/φ125mm6、研磨厚度：30mm7、下研盤(pán)轉(zhuǎn)速0-50rpm8、主電機(jī)：11kWAC380V1450rpm變頻調(diào)速

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