它是一種緊湊且低成本的膜厚計，可以通過高精度光學(xué)干涉法輕松測量膜厚。

我們采用了一體式外殼，將必要的設(shè)備容納在主體中，從而實現(xiàn)了穩(wěn)定的數(shù)據(jù)采集。

支持從薄膜到厚膜的各種膜厚

使用反射光譜進行膜厚分析

緊湊且價格低廉，實現(xiàn)了非接觸，無破壞的高精度測量

簡單的條件設(shè)置和測量操作！任何人都可以輕松測量薄膜厚度

使用峰谷法，頻率分析法，非線性小二乘法，優(yōu)化法等，可以進行多種膜厚測量。

通過非線性小二乘法的膜厚分析算法，可以進行光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光計數(shù)）。

測量項目

反射率測量

膜厚分析（10層）

光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光計數(shù)）

測量目標(biāo)

功能膜，塑料

透明導(dǎo)電膜（ITO，銀納米線），相位差膜，偏光膜，AR膜，PET，PEN，TAC，PP，PC，PE，PVA，膠粘劑，膠粘劑，保護膜，硬質(zhì)大衣，防指紋等

半導(dǎo)體

化合物半導(dǎo)體，硅，氧化膜，氮化膜，抗蝕劑，SiC，GaAs，GaN，InP，InGaAs，SOI，藍寶石等。

表面處理

DLC涂層，防銹劑，防霧劑等

光學(xué)材料

濾鏡，增透膜等

FPD

LCD（CF，ITO，LC，PI），OLED（有機膜，密封劑）等

其他

硬盤，磁帶，建筑材料等

技術(shù)指標(biāo)

類型薄膜類型標(biāo)準(zhǔn)型測量波長范圍300-800納米450-780納米測量膜厚范圍

（SiO2換算）3納米至35微米10nm-35μm光斑直徑φ3mm/φ1.2mm樣本量φ200×5（高）mm測量時間在0.1-10秒內(nèi)電源供應(yīng)AC100V±10％300VA尺寸，重量280（寬）x 570（深）x 350（高）mm，24公斤其他參考板，配方創(chuàng)建服務(wù)