部分：二維基礎(chǔ)坐標(biāo)，繪圖，修改，圖案填充，標(biāo)注，形位公差，加工符號(hào)，圖層，塊，文字，表格等。

第二部分：測(cè)量實(shí)體的測(cè)量，游標(biāo)卡尺的使用，建立草圖。

第三部分：識(shí)圖基本尺寸的識(shí)別，形位公差的識(shí)別，加工符號(hào)識(shí)別。

第四部分：繪圖規(guī)范制圖的一些國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)：認(rèn)識(shí)圖幅，制圖中圖線的組成，具體字體和比例的應(yīng)用，基本平面圖的畫(huà)法及基本平面內(nèi)的標(biāo)注。投影的基本知識(shí)：分析實(shí)物，明確實(shí)物的表達(dá)方式，根據(jù)實(shí)物確定圖幅和比例，布圖、畫(huà)底圖，檢查、修