產(chǎn)品用途：

此款CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實驗。

產(chǎn)品組成：

此款CVD系統(tǒng)配置：

1.1200度開啟式真空管式爐（可選配單溫區(qū)、雙溫區(qū)）。

2.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

3.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）

產(chǎn)品特點：

1 控制電路選用模糊PID程控技術，該技術控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單。

2 氣路快速連接法蘭結(jié)構(gòu)采用本公司獨有的知識產(chǎn)權(quán)專利設計,提高操作便捷性。

3 中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統(tǒng)采用高壓強，耐沖擊分子泵

防止意外漏氣造成分子泵損壞，延長系統(tǒng)使用壽命。

天津中環(huán)電爐股份有限公司

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