擴(kuò)散片是背光模組組成之一，擴(kuò)散板(Diffuser)也有人叫它擴(kuò)散片， 主要功能為顯示器提供一個(gè)均勻的面光源。 基材需選擇光透過(guò)率高的材料如PET/PC/PMMA。一般傳統(tǒng)的擴(kuò)散膜主要是在擴(kuò)散膜基材中，加入一顆顆的化學(xué)顆粒，作為散射粒子，而現(xiàn)有之?dāng)U散板其微粒子分散在樹(shù)指層之間，所以光缐在經(jīng)過(guò)擴(kuò)散層時(shí)會(huì)不斷的再兩個(gè)折射率相異的介質(zhì)中穿過(guò)，在此同時(shí)光缐就會(huì)發(fā)生許多折射、反射與散射的現(xiàn)象，如此便造成了光學(xué)擴(kuò)散的效果。

擴(kuò)散片的結(jié)構(gòu)從下至上通常是抗靜電涂布層,PET基材,以及擴(kuò)散層

背光模組的材料的組成從下至上為反射片,導(dǎo)光板,下擴(kuò)散片,棱鏡片,上擴(kuò)散片.擴(kuò)散片工作原理是借有擴(kuò)散物質(zhì)的折射和反射將光源霧化,并將光由小角度出光集中到正面以提高正面輝度.下擴(kuò)散片主要是將從導(dǎo)光板發(fā)出的光集中起來(lái)均勻投射到棱鏡片上,而上擴(kuò)散片的主要作用是將棱鏡片射出的光霧化,并將光均勻透出.同時(shí)上擴(kuò)也能起到保護(hù)棱鏡片的作用.

電池片種類(lèi)：?jiǎn)尉щ姵仄?

電池片效率： 高達(dá)20.7%

平均額定功率：高達(dá)5.03W

尺寸：規(guī)格156x156mm ±0.5mm，厚度200μm ±20μm

前面(-): 0.8mm柵線(xiàn)（銀），抗反射膜（氮化硅）

背面(+): 1.93mm焊墊，背面（鋁）

產(chǎn)品單頁(yè): CSUN-S156-5BB(Dia210)

主營(yíng)：半導(dǎo)體硅片、太陽(yáng)能電池硅片、單晶硅片、多晶硅片、廢硅片、碎硅片、硅片、拋光硅片、太陽(yáng)能硅片、頭尾料、稀有金屬、各種單晶硅圓形棒、片及方形棒等半導(dǎo)體電子類(lèi)產(chǎn)品，多晶硅硅錠、硅片、電池片、太陽(yáng)能級(jí)多晶硅等硅片。價(jià)格合理，地區(qū)不限，量大從優(yōu)。我公司可以派專(zhuān)員上門(mén)到工廠(chǎng)看貨定價(jià)，歡迎有貨源的單位及個(gè)人聯(lián)系洽談回收事宜，對(duì)提供成功業(yè)務(wù)信息者提供豐厚業(yè)務(wù)傭金。服務(wù)宗旨： 誠(chéng)實(shí)、公正、守信、價(jià)格合理、平等互利。

碎硅片屬于硅原料五大類(lèi)（碎硅片、單晶硅片、頭尾料、堝底料和特殊物料）的其中之一。碎硅片(Broken wafer)是操作人員在單晶硅片的切片、脫膠、清洗、物流的系列生產(chǎn)過(guò)程中因破損而產(chǎn)生的碎片。目前碎硅片的處理方法是：對(duì)符合回收條件的電子級(jí)廢硅碎料或塊料作為原料重新回爐后使用?；貭t前必須經(jīng)過(guò)一系列的處理，包括反復(fù)的人工分揀、逐片檢測(cè)，分為以下兩種類(lèi)型的處理方法：

，對(duì)原生型碎硅片可通過(guò)清洗、烘干進(jìn)行處理；

第二，對(duì)成品型碎硅片根據(jù)其加工程度，通過(guò)一系列化學(xué)方法恢復(fù)其原生型硅料狀態(tài)，再回爐成為太陽(yáng)能級(jí)硅片的原料。