鍍液溫度越高，硬度越低；電流密度越高，硬度越高。由于高硬度和高應(yīng)力（脆性）往往是相關(guān)的，因而鍍硬鉻層的硬度不宜過高。將鍍液溫度控制在35～55℃之間，將電流密度控制在30～50A/dm2 之間，可獲得滿足空客鍍鉻層硬度技術(shù)要求（≥700HV）的鍍鉻層。

這是由于電鍍硬鉻時的電流密度很大，所得鍍硬鉻層的表面存在著大量微裂紋，經(jīng)過HA油除氫處理，可以使微裂紋得以填充，從而有效阻滯環(huán)境中的腐蝕介質(zhì)滲入，進而提高了硬鉻層的抗鹽霧腐蝕性能?？湛鸵箦冇层t層需通過750h鹽霧腐蝕試驗，可以認(rèn)為，采取HA油除氫處理完全可以使鍍硬鉻層滿足該要求 [3] 。

鍍液配制

在清洗過的鍍槽子內(nèi)加入三分之二的蒸餾水或去離子水，并加熱至55-60℃；

將計算量的鉻酐（250克/升）緩慢加入槽內(nèi)，攪拌使其全部溶解；

加入RC-25K開缸劑20毫升/升；

分析所含硫酸濃度，并調(diào)整至2.7克/升；

加入適量的鉻霧抑制劑；

電解4-6小時，便可開始試鍍。

電鍍生產(chǎn)線包括全自動電鍍生產(chǎn)線和手動、半自動電鍍生產(chǎn)線。電鍍生產(chǎn)線按照電鍍方式來又可以分為掛鍍生產(chǎn)線、滾鍍生產(chǎn)線、連續(xù)鍍、刷鍍生產(chǎn)線等等。可以利用電解工藝,將各種金屬或合金沉積在鍍件表面,形成金屬鍍層。