鍍硬鉻時，滲氫較為嚴(yán)重，使得鍍鉻層因存在張應(yīng)力而呈拉伸狀態(tài)，且孔隙率增大，從而降低鍍層的耐蝕性能，高的內(nèi)應(yīng)力甚至還會降低鍍層的疲勞強度及其與基體金屬的結(jié)合強度。因此，鍍鉻后通常需進(jìn)行除氫等后處理工序，以降低鉻鍍層的脆性和去除基體金屬的氫脆敏感性，盡量提高鍍鉻層的耐腐蝕性能及附著力。

鍍液配制

在清洗過的鍍槽子內(nèi)加入三分之二的蒸餾水或去離子水，并加熱至55-60℃；

將計算量的鉻酐（250克/升）緩慢加入槽內(nèi)，攪拌使其全部溶解；

加入RC-25K開缸劑20毫升/升；

分析所含硫酸濃度，并調(diào)整至2.7克/升；

加入適量的鉻霧抑制劑；

電解4-6小時，便可開始試鍍。

添加劑

RC-25K 開缸劑RC-25K通常只用于新配鍍液，或作補充帶出損耗；

RC-25R 補充劑RC-25R用于鍍液的補充添加：每補充1公斤鉻酐添加100毫升RC-25R

雜質(zhì)影響

對一般硬鉻鍍液有害的雜質(zhì)亦同樣會影響RC-25鍍液。三價鉻及金屬（鐵、銅、鎳）雜質(zhì)過多時，會降低鍍液的導(dǎo)電性能，使鍍層粗糙?？傠s質(zhì)含量不能超過7.5克/升，氯離子含量亦不宜超過100pm.

電鍍生產(chǎn)線包括全自動電鍍生產(chǎn)線和手動、半自動電鍍生產(chǎn)線。電鍍生產(chǎn)線按照電鍍方式來又可以分為掛鍍生產(chǎn)線、滾鍍生產(chǎn)線、連續(xù)鍍、刷鍍生產(chǎn)線等等?？梢岳秒娊夤に?將各種金屬或合金沉積在鍍件表面,形成金屬鍍層。