一般的蝕刻加工工藝中，曝光是一個重要的環(huán)節(jié)，曝光是將需要蝕刻加工的圖案通過光繪的方式轉(zhuǎn)移到菲林膠片上，或者通過光刻可在玻璃菲林上，再通過及其或者人工對位將菲林對位，再將經(jīng)過涂布的金屬片材放置與兩張菲林膠片中間，吸氣后就可以曝光顯影了。

顯影過程中，如果曝光時間不夠，膠膜溶脹變軟，色澤暗淡、圖案不清晰，進入蝕刻流程時容易翹膜、滲鍍、掉落;曝光過度時，會導致膠膜發(fā)脆、難于顯影、殘膠遺留等問題。曝光時會導致線寬偏差，影響蝕刻精度，過量曝光會使圖案線條變細。所以曝光是非常重要的環(huán)節(jié)，直接影響到蝕刻產(chǎn)品的精度、質(zhì)量。

而現(xiàn)在新型的蝕刻優(yōu)版方案只需將客戶所需圖文在電腦上進行定稿，直接對工件噴印掩膜，然后蝕刻。這種新型工藝無需出菲林，曝光，洗板，避免了傳統(tǒng)蝕刻工藝中的制版污染和質(zhì)量穩(wěn)定問題，蝕刻優(yōu)版工藝質(zhì)量好，穩(wěn)定，為蝕刻行業(yè)的發(fā)展奠定了新的基礎(chǔ)。

蝕刻優(yōu)版的優(yōu)勢：

1、一步完成掩膜打印工藝，人工少

2、工藝實現(xiàn)靈活，周期短，生產(chǎn)，產(chǎn)品質(zhì)量高

3、杜絕污染，是現(xiàn)在蝕刻行業(yè)的理想方案

數(shù)印通蝕刻優(yōu)版工藝廣泛應(yīng)用于：消費電子、精密過濾，精密五金、通訊產(chǎn)品、汽車精密零件過濾，裝飾板、醫(yī)療器械、航空航天、石油化工、軍事設(shè)備、實驗科研、家用電器、應(yīng)用元件等行業(yè)。