掛鍍工藝的特點(diǎn)是電鍍時(shí)單件電流密度較高且不會(huì)隨時(shí)間而變化,槽電壓低,鍍液溫升慢,帶出量小,鍍件的均勻性好。但是,掛鍍工藝的生產(chǎn)率相對(duì)較低,設(shè)備和輔助用具的維修量較大。掛鍍工藝的特點(diǎn)是電鍍時(shí)單件電流密度較高且不會(huì)隨時(shí)間而變化,槽電壓低,鍍液溫升慢,帶出量小,鍍件的均勻性好。但是,掛鍍工藝的生產(chǎn)率相對(duì)較低,設(shè)備和輔助用具的維修量較大。
掛鍍工藝的特點(diǎn)是電鍍時(shí)單件電流密度較高且不會(huì)隨時(shí)間而變化,槽電壓低,鍍液溫升慢,帶出量小,鍍件的均勻性好。但是,掛鍍工藝的生產(chǎn)率相對(duì)較低,設(shè)備和輔助用具的維修量較大。掛鍍工藝的特點(diǎn)是電鍍時(shí)單件電流密度較高且不會(huì)隨時(shí)間而變化,槽電壓低,鍍液溫升慢,帶出量小,鍍件的均勻性好。但是,掛鍍工藝的生產(chǎn)率相對(duì)較低,設(shè)備和輔助用具的維修量較大。
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