適用設備:適用于北方華創(chuàng)、中科科儀、沈陽科儀、中電科、微電子所、南光機器廠、金盛微納、泰科諾、Kurt J.Lesker 愛發(fā)科、丹頓真空等各種單靶濺射系統(tǒng),多靶濺射系統(tǒng),離子濺射系統(tǒng)等磁控濺射設備。
應用領域:生產及科研方面應用,光學,微納加工,器件等行業(yè),廣泛用于半導體芯片、太陽能光伏 、平面顯示、特種涂層等鍍膜產品。
適用設備:適用于北方華創(chuàng)、中科科儀、沈陽科儀、中電科、微電子所、南光機器廠、金盛微納、泰科諾、Kurt J.Lesker 愛發(fā)科、丹頓真空等各種單靶濺射系統(tǒng),多靶濺射系統(tǒng),離子濺射系統(tǒng)等磁控濺射設備。
應用領域:生產及科研方面應用,光學,微納加工,器件等行業(yè),廣泛用于半導體芯片、太陽能光伏 、平面顯示、特種涂層等鍍膜產品。
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