氧化銦是一種寬禁帶半導體，具有良好的光學透明性，而氧化錫的引入則增強了材料的導電性。這種成分結構使得ITO材料在保證高透光率的同時也具有低電阻率，兼具光學和電學性能。ITO靶材的這一獨特特性使其成為透明導電膜的主流材料，尤其適用于要求高透明度的光電設備和顯示技術。

流回收工藝分類 當前ITO靶材回收主要圍繞銦元素提取展開，主要分為物理法、化學法和聯(lián)合工藝三類： 熔煉過濾法（物理法） 通過高溫熔煉結合篩網(wǎng)過濾實現(xiàn)銦與其他金屬的分離。具體流程包括： 廢銦塊在625℃熔煉爐中熔化，利用鐵/不銹鋼篩網(wǎng)（30-40目）截留固態(tài)雜質鐵、鋁。 熔融銦通過重力滴落收集，殘留物可二次熔煉提升回收率至72%。 該方法具有設備簡單（圖1）、周期短（單次處理≤60分鐘）的優(yōu)勢，適用于含銦量70%-90%的廢靶材。但需控溫（±5℃），否則雜質金屬可能熔化導致純度下降至95%以下。

ITO廢料來源與回收技術 ITO廢料來源于生產(chǎn)廢料、終端廢料及工業(yè)副產(chǎn)物，為回收提供了豐富資源。ITO廢料來源于多個方面。首先，在ITO靶材的生產(chǎn)過程中，會產(chǎn)生切削碎屑和鍍膜后的廢靶材，這些屬于生產(chǎn)廢料。其次，隨著電子產(chǎn)品的更新?lián)Q代，廢棄的LCD面板、智能手機屏幕以及光伏薄膜等電子垃圾也逐漸增多，這些被稱為終端廢料。此外，金屬冶煉過程中也會產(chǎn)生含銦煙塵或廢渣，這屬于工業(yè)副產(chǎn)物。這些不同來源的ITO廢料，為銦的回收利用提供了豐富的資源。

銦靶材主要由金屬銦制成，具有質軟、延展性好和導電性強的特點。作為稀有金屬，銦在自然界的含量稀少，但其獨特的物理和化學性質使其成為眾多高科技產(chǎn)品的核心組件。銦靶材廣泛應用于航空航天、電子工業(yè)等領域，是制造高性能電子元器件的關鍵材料。