氧化銦是一種寬禁帶半導(dǎo)體，具有良好的光學(xué)透明性，而氧化錫的引入則增強(qiáng)了材料的導(dǎo)電性。這種成分結(jié)構(gòu)使得ITO材料在保證高透光率的同時(shí)也具有低電阻率，兼具光學(xué)和電學(xué)性能。ITO靶材的這一獨(dú)特特性使其成為透明導(dǎo)電膜的主流材料，尤其適用于要求高透明度的光電設(shè)備和顯示技術(shù)。

溶劑萃取法（化學(xué)法） 以濕法冶金為基礎(chǔ)，通過P204萃取劑選擇性富集銦： 含銦物料經(jīng)硫酸浸出后，在pH=1.5-2.0條件下進(jìn)行三級(jí)逆流萃取，銦萃取率可達(dá)98%。 該工藝對(duì)低品位原料（含銦0.02%）適用性強(qiáng)，但存在試劑消耗大（硫酸用量2-3噸/噸銦）、廢水處理成本高的問題。

當(dāng)前，銦的主要消費(fèi)領(lǐng)域集中在ITO靶材上，其占比高達(dá)約70%。此外，半導(dǎo)體制造和合金領(lǐng)域的需求也不容忽視，兩者合計(jì)占總消費(fèi)量的24%，而其他研究領(lǐng)域則占據(jù)了6%。然而，由于ITO制造過程中靶材利用率僅達(dá)30%左右，導(dǎo)致大量剩余材料成為廢料。加之電子廢棄物的激增，銦回收已成為資源可持續(xù)利用不可或缺的一環(huán)。隨著技術(shù)進(jìn)步和應(yīng)用需求的增長，ITO廢料回收能有效減少原礦資源消耗，實(shí)現(xiàn)資源的可持續(xù)性發(fā)展。

ITO靶材回收流程 ITO靶材的回收流程通常包括以下幾個(gè)步驟： 1. 收集與分類：將廢舊ITO靶材進(jìn)行收集，并根據(jù)其種類、純度等進(jìn)行分類。 2. 破碎與研磨：將分類后的靶材進(jìn)行破碎和研磨，使其變成粉末狀，便于后續(xù)處理。 3. 化學(xué)分離：采用化學(xué)方法將粉末中的銦、錫等元素進(jìn)行有效分離。 4. 提純與精煉：對(duì)分離出的銦、錫等元素進(jìn)行提純和精煉，得到高純度的金屬產(chǎn)品。 5. 再加工：將提純后的金屬產(chǎn)品加工成新的靶材或其他產(chǎn)品，實(shí)現(xiàn)資源的循環(huán)利用。