溶劑萃取法（化學(xué)法） 以濕法冶金為基礎(chǔ)，通過P204萃取劑選擇性富集銦： 含銦物料經(jīng)硫酸浸出后，在pH=1.5-2.0條件下進(jìn)行三級(jí)逆流萃取，銦萃取率可達(dá)98%。 該工藝對(duì)低品位原料（含銦0.02%）適用性強(qiáng)，但存在試劑消耗大（硫酸用量2-3噸/噸銦）、廢水處理成本高的問題。

回收1噸銦可減少50噸原礦開采，成本降低30%~50%。高純銦需求穩(wěn)定，半導(dǎo)體和光伏領(lǐng)域推動(dòng)回收緊迫性。濕法、火法冶金等技術(shù)靈活適配不同廢料，實(shí)現(xiàn)資源可持續(xù)利用。

當(dāng)前，銦的主要消費(fèi)領(lǐng)域集中在ITO靶材上，其占比高達(dá)約70%。此外，半導(dǎo)體制造和合金領(lǐng)域的需求也不容忽視，兩者合計(jì)占總消費(fèi)量的24%，而其他研究領(lǐng)域則占據(jù)了6%。然而，由于ITO制造過程中靶材利用率僅達(dá)30%左右，導(dǎo)致大量剩余材料成為廢料。加之電子廢棄物的激增，銦回收已成為資源可持續(xù)利用不可或缺的一環(huán)。隨著技術(shù)進(jìn)步和應(yīng)用需求的增長(zhǎng)，ITO廢料回收能有效減少原礦資源消耗，實(shí)現(xiàn)資源的可持續(xù)性發(fā)展。

ITO靶材，即銦錫氧化物靶材，主要由氧化銦（In?O?）和氧化錫（SnO?）組成，其中氧化銦占比高達(dá)90%。ITO靶材因其優(yōu)異的導(dǎo)電性和高透光性，成為液晶顯示器（LCD）、觸摸屏及太陽(yáng)能電池等光電設(shè)備的理想材料。其晶體結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，電導(dǎo)率高，確保了設(shè)備的運(yùn)行。